薄膜沉积

生产均匀的涂层需要快速、精确地将气体输送到真空镀膜系统中。这在从人造钻石生产到光伏涂层的薄膜应用中至关重要。

优化薄膜沉积设置,以实现最大吞吐量和最优薄膜质量

Alicat 拥有一系列专为升级现有真空装置而设计的定制解决方案。

  • 无需预热时间。 开机后,沉积循环可以立即开始。
  • 毫秒级响应时间。流量和压力控制器可立即响应过程工艺条件变化,最大限度地提高均匀性并最大限度地减少浪费。
  • 多种气体兼容性。 单个设备可以用于沉积过程中所需的任何气体,精度高。

应用

满量程流量,不受气体或工艺条件变化的影响

Alicat 设备预装了 98+ 种气体校准。在标准工况下,流量和压力设备将保持其规定的流量范围和适用于任何气体的精度规格

316L 不锈钢和 FFKM 弹性体确保与腐蚀性气体和恶劣元素兼容。

您可以在现场切换气体,无需停机或重新校准。

设计符合半导体 SEMI 标准

MCE 系列和 MCV 系列质量流量控制器旨在取代传统设备。为确保易于集成,仪器配备了各种数字和模拟通信协议,包括 EtherCAT。

产品

CODA KC 系列

CODA 科里奥利质量流量控制器精确控制 去离子水 或高压气体。

集成了累加器的氢气质量流量计使监测变得容易,最高可达 12,000 SLPM。

氢气质量流量控制器在高达 12,000 SLPM 的满量程流量下模拟燃料电池行为 ,响应迅速,精度高。

双阀压力控制器 PCD 系列

双阀压力控制器可毫秒内达到设定值,并保持控制,而不会持续泄露

主要行业用途